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日本SANYU快速濺鍍機上市囉!!

發布日期:2021/11/12

日本SANYU快速濺鍍機

使用脈衝直流電漿濺鍍。 其主要原理是在真空環境,將陰極加至數百伏特電壓,
讓通入的氣體因高電壓而起輝光放電作用形成電漿,並利用電漿的正離子轟擊金屬靶材表面,
以能量轉移方式,將靶材原子擊出而射沉積於工件上,進行薄膜沉積。
 
                                

 

SC-701MK II ECO簡易型導電膜濺鍍機  目錄載點

       電子顯微鏡樣品製作備用塗布機

【特點】

    Ø一件操作簡單

    Ø採用磁控陰極減少離子損傷

    Ø體積小、重量輕

 

 

SC-701MK II 實驗型導電膜濺鍍機  目錄載點

【特點】

   Ø小巧緊湊

   Ø標配間歇噴濺功能

   Ø可輕鬆製作電極膜的桌面型緊湊DC濺射

 

 


SC-701MK II ADVANCE 多功能桌上濺鍍機  目錄載點

【特點】

   Ø能使用Ni、Cr、W、Ti、Al等多種靶材相容

   Ø配備真空計以確保成膜條件的再現性

   Ø小型、緊湊高規格

   Ø手動快門標準設備

 

SC-701AT全自動離子鍍膜機

 從真空排氣到徒步(蝕刻)、釋放到大氣中,可自動進行

【特點】

   Ø濺鍍膜厚控制連動機制,塗佈均勻再現性優

   Ø配備鍍膜/蝕刻模式

   Ø可應用電極鍍膜

   Ø排氣操作完全自動化

 
 
 

SC-708(BMP)8吋濺鍍機

 4~8英吋離子鍍膜機適用於對大型樣品的整個表面進行鍍膜

【特點】

   Ø根據樣品尺寸和數量。

   Ø可選擇4、5、6、7、8、1英吋單位可應用電極鍍膜

   Ø配備鍍膜/蝕刻模式

   Ø支持PDMS表面處裡行成微通道流道以及濺射薄膜製造

   Ø可應用電極膜反射膜

 

 

SC-701CT碳纖維濺鍍機   目錄載點

 一種碳氣相沉積專用塗層機可省去EPMA和分析SEM

【特點】

   Ø採用閃蒸蒸鍍方式→實現無個體差異的碳蒸鍍,減低對試料的熱損傷

   Ø免去每次蒸鍍時瓜碳棒的煩惱

   Ø僅通過旋轉泵排氣(低真空),樣品表面積碳優異的粒子環繞性

   Ø通過安裝可選的磁控濺射裝置(SC-MC),他可以用作金屬濺射,排氣裝置自動化

 

 

 

 

 

 

 

 

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